Aixtron MOCVD Receptor

Susceptory produkovalVetek Semiconductorjsou vyrobeny z grafitového substrátu a povlakového materiálu z karbidu křemíku (SiC). Vzhledem k vyšší odolnosti proti opotřebení, odolnosti proti korozi a extrémně vysoké tvrdosti SiC materiálu je zvláště vhodný pro použití v náročných procesních prostředích. Susceptory vyráběné společností Vetek Semiconductor lze proto přímo použít ve vysokoteplotních procesech MOCVD bez dodatečné povrchové úpravy.

Susceptory jsou klíčovými součástmi při výrobě polovodičů, zejména v zařízeních MOCVD pro procesy depozice tenkých vrstev. Hlavní rolePřijímač Aixtron SiCv procesu MOCVD je nést polovodičové wafery, zajistit rovnoměrnou a vysoce kvalitní depozici tenkých vrstev zajištěním rovnoměrného rozložení tepla a reakčního prostředí, čímž se dosáhne vysoce kvalitní produkce tenkých vrstev.

Aixtron MOCVD Receptorse obvykle používá k podepření a upevnění základny polovodičových destiček, aby byla zajištěna stabilita destičky během procesu nanášení. Současně je povrchová vrstva Aixtron MOCVD Susceptor vyrobena z karbidu křemíku (SiC), vysoce tepelně vodivého materiálu. Povlak SiC zajišťuje rovnoměrnou teplotu na povrchu waferu a rovnoměrné zahřívání je nezbytné pro získání vysoce kvalitních filmů.

Navíc,Aixtron MOCVD Receptorvyrábíme hraje větší roli při řízení toku a distribuce reaktivních plynů prostřednictvím optimalizovaného designu materiálů. Vyhněte se vířivým proudům a teplotním gradientům, abyste dosáhli rovnoměrného nanášení filmu.

Ještě důležitější je, že v procesu MOCVD má povlakový materiál z karbidu křemíku (SiC) odolnost proti korozi, takžeVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD Receptorsnese také vysoké teploty a korozivní plyny.

Základní fyzikální vlastnostiSIC NÁTĚR:

VeTek Semiconductor Wafer Boat obchody:

Přehled průmyslového řetězce epitaxe polovodičových čipů: