produkty

View as

Nosič plátku s povlakem CVD TaC

VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier, profesionální výrobce a továrna na nosiče povlaků CVD TaC v Číně, je nástroj pro přenášení plátků speciálně navržený pro vysokoteplotní a korozivní prostředí při výrobě polovodičů. Tento výrobek má vysokou mechanickou pevnost, vynikající odolnost proti korozi a tepelnou stabilitu, což poskytuje nezbytnou záruku pro výrobu vysoce kvalitních polovodičových součástek. Vaše další dotazy jsou vítány.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Držák na oplatky Epi

VeTek Semiconductor je profesionální výrobce a továrna Epi Wafer Holder v Číně. Epi Wafer Holder je držák destiček pro proces epitaxe při zpracování polovodičů. Je to klíčový nástroj pro stabilizaci plátku a zajištění rovnoměrného růstu epitaxní vrstvy. Je široce používán v epitaxních zařízeních, jako je MOCVD a LPCVD. Je to nenahraditelné zařízení v procesu epitaxe. Vítám vaši další konzultaci.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Satelitní nosič destiček Aixtron

Jako profesionální výrobce a inovátor Aixtron Satellite Wafer Carrier v Číně, VeTek Semiconductor's Aixtron Satellite Wafer Carrier je nosič plátků používaný v zařízení AIXTRON, který se používá hlavně v procesech MOCVD při zpracování polovodičů a je zvláště vhodný pro vysokoteplotní a vysoce přesné procesy zpracování polovodičů. Nosič může poskytovat stabilní podporu plátku a rovnoměrné ukládání filmu během epitaxního růstu MOCVD, což je nezbytné pro proces ukládání vrstvy. Vítám vaši další konzultaci.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Reaktor LPE Halfmoon SiC EPI

VeTek Semiconductor je profesionální výrobce produktů LPE Halfmoon SiC EPI Reactor, inovátor a lídr v Číně. LPE Halfmoon SiC EPI Reactor je zařízení speciálně navržené pro výrobu vysoce kvalitních epitaxních vrstev z karbidu křemíku (SiC), používaných především v polovodičovém průmyslu. VeTek Semiconductor se zavazuje poskytovat špičkové technologie a produktová řešení pro polovodičový průmysl a vítá vaše další dotazy.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Ohřívač povlaku TaC

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem TaC Coating Heater v Číně. Tento produkt má extrémně vysoký bod tání (asi 3880 °C). Vysoký bod tání TaC Coating Heater umožňuje pracovat při extrémně vysokých teplotách, zejména při růstu epitaxních vrstev nitridu galia (GaN) v procesu metal organické chemické depozice z plynné fáze (MOCVD). VeTek Semiconductor se zavazuje poskytovat pokročilé technologie a produktová řešení pro polovodičový průmysl. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Fyzikální depozice par

Vetek semiconductor Physical Vapour Deposition (PVD) je pokročilá procesní technologie široce používaná při povrchové úpravě a přípravě tenkých vrstev. Technologie PVD využívá fyzikální metody k přímé transformaci materiálů z pevných nebo kapalných látek na plyn a vytvoření tenkého filmu na povrchu cílového substrátu. Tato technologie má výhody vysoké přesnosti, vysoké rovnoměrnosti a silné adheze a je široce používána v polovodičích, optických zařízeních, povlakech nástrojů a dekorativních povlakech. Vítejte na diskuzi s námi!

Přečtěte si více Odeslat dotaz

<1 2 3 4 5...27 >