Semiconductor Quartz Bell Jar

SemenaPolovodičKřemenná zvonová nádobahraje několik klíčových rolí ve zpracování polovodičů. a vakuový systém zvonových nádobposkytuje nejen stabilní a kontrolované reakční prostředí, ale také zajišťuje účinnost a přesnost různých procesů díky své vynikající tepelné stabilitě, chemické inertnosti a optické průhlednosti. Tyto vlastnosti to také určujízvonová vakuová komoraje nepostradatelnou součástí v procesu výroby polovodičů.

SemenaPolovodičový křemen vytváří utěsněné provozní prostředí, které umožňuje rovnoměrnou distribuci procesních plynů a jejich reakci s povrchem plátku za kontrolovaných podmínek. Proto,Semiconductor Křemenná zvonová nádobase obvykle používá v procesech, jako je CVD, difúze a oxidace k přesné kontrole složení atmosféry a tlaku, čímž je zajištěna jednotnost filmu a čistota materiálu.

Křemenné materiály mají zároveň vynikající tepelnou stabilitu, odolnost vůči vysokým teplotám (vysokoteplotní prostředí při zpracování polovodičů je obvykle až 1000 °C nebo více) a vlastnosti produktu, které udržují stabilní tvar a velikost během ohřevu a chlazení. To určuje, žeKřemenná zvonová nádobamůže plně zajistit rovnoměrnost povrchové teploty plátku ve vysokoteplotním prostředí difúze a oxidace, čímž se zlepší kvalita a jednotnost nanesené nebo difúzní vrstvy.

Ještě důležitější je,Vysoce čistý křemen Vetek Semiconductor není snadné reagovat s procesními plyny v prostředí s vysokou teplotou a má silnou odolnost proti korozi. Tato charakteristika produktu určuje, že v procesech využívajících korozivní plyny (jako jsou některé procesy CVD),Semiconductor Křemenná zvonová nádobamůže plně zachovat chemickou stabilitu, čímž se zabrání kontaminaci polovodičových součástek.

VeTek SemiconductorKřemenná zvonová nádoba:

Přehled průmyslového řetězce epitaxe polovodičových čipů: