SiN substrát

VeTek Semiconductor je přední výrobce a dodavatel produktů SiN Substrate v Číně. Náš substrát z nitridu křemíku má vynikající tepelnou vodivost, vynikající chemickou stabilitu a odolnost proti korozi a vynikající pevnost, což z něj činí vysoce výkonný materiál pro polovodičové aplikace. Substrát VeTekSemi SiN zajišťuje, že budete těžit ze špičkových technologií v oblasti zpracování polovodičů, přísné kontroly kvality a uvítá vaši další konzultaci.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Substrát VeTek Semiconductor SiN je pokročilýkeramický materiálkterý přitahuje širokou pozornost pro své vynikající mechanické, elektrické a tepelné vlastnosti. Tato keramikasubstrátje vyrobena z atomů křemíku a dusíku vázaných prostřednictvím specifické krystalové struktury, vykazující jedinečnou pevnost, trvanlivost a tepelnou odolnost. SiN substráty jsou nepostradatelné ve vysoce výkonných aplikacích, jako jsou polovodičová zařízení, a jejich vlastnosti výrazně zlepšují účinnost a spolehlivost integrovaných obvodů (IC), senzorů amikroelektromechanické systémy (MEMS).

Vlastnosti produktu SiN substrátů：

Výborná tepelná vodivost: Tepelný management hraje důležitou roli ve výkonu polovodičových součástek. Tepelná vodivost keramické desky SiN je až 130 W/m·K, která dokáže účinně odvádět teplo z elektronických součástek a zabránit přehřívání, čímž prodlužuje životnost zařízení.

Chemická stabilita a odolnost proti korozi: Nitrid křemíku vykazuje extrémně silnou odolnost proti chemické korozi a je zvláště vhodný pro použití v prostředích vystavených chemikáliím nebo extrémním teplotám. I v prostředí s korozivními plyny, kyselinami a zásadami si SiN substráty zachovávají svou strukturální integritu a zajišťují dlouhodobou spolehlivost v průmyslových aplikacích.

Vysoká odolnost proti tepelným šokům: SiN substráty vydrží rychlé změny teplot až do 1200°C bez tepelného šoku nebo praskání. Tato vlastnost je kritická v oblastech, jako je výkonová elektronika a vysokoteplotní senzory, které jsou často vystaveny náhlým změnám teploty.

Vysoká pevnost a houževnatost: Ve srovnání s jinými keramickými materiály je pevnost v tlaku oSiN keramický substrátmůže dosáhnout 600 MPa a vykazuje vynikající houževnatost. To mu umožňuje účinně odolávat praskání a udržovat strukturální integritu ve vysoce namáhaných a precizně zpracovaných polovodičových procesech, což zajišťuje mechanickou stabilitu.

Přehled výroby křemíku/nitridu křemíku (Si/SiN) TEM

Substrát VeTek Semiconductor Silicon Nitride (SiN) se stal klíčovým materiálem v polovodičovém průmyslu a dalších oborech díky svým vynikajícím vlastnostem produktu. Zejména v oblasti polovodičových součástek, MEMS, optoelektroniky a výkonové elektroniky jsou SiN substráty hnacím motorem vývoje budoucích elektronických technologií, důležitým základním kamenem.

VeTekSemi Obchody s produkty SiN Substrate:

Veteksemi Silicon Nitride susbstrate shops