Ohřívač povlaku TaC

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem TaC Coating Heater v Číně. Tento produkt má extrémně vysoký bod tání (asi 3880 °C). Vysoký bod tání TaC Coating Heater umožňuje pracovat při extrémně vysokých teplotách, zejména při růstu epitaxních vrstev nitridu galia (GaN) v procesu metal organické chemické depozice z plynné fáze (MOCVD). VeTek Semiconductor se zavazuje poskytovat pokročilé technologie a produktová řešení pro polovodičový průmysl. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

TaC Coating Heater je vysoce výkonný topný článek široce používaný v procesech výroby polovodičů. Jeho povrch je potažen materiálem z karbidu tantalu (TaC), který dodává topidlu vynikající odolnost vůči vysokým teplotám, odolnost proti chemické korozi a vynikající tepelnou vodivost.

Hlavní aplikace TaC Coating Heater ve výrobě polovodičů zahrnují:

Během procesu epitaxního růstu z nitridu galia (GaN) poskytuje ohřívač povlaku TaC přesně řízené prostředí s vysokou teplotou, aby bylo zajištěno, že se epitaxní vrstva na substrát ukládá rovnoměrnou rychlostí a vysokou kvalitou. Jeho stabilní tepelný výkon pomáhá dosáhnout přesné kontroly tenkovrstvých materiálů, čímž zlepšuje výkon zařízení.

Kromě toho se v procesu metal organické chemické depozice z plynné fáze (MOCVD) v kombinaci s vysokou teplotní odolností a tepelnou vodivostí povlaku TaC obvykle používá ohřívač povlaku TaC k ohřevu reakčního plynu a tím, že zajišťuje rovnoměrné rozložení tepla, podporuje jeho chemická reakce na povrchu substrátu, čímž se zlepší rovnoměrnost epitaxní vrstvy a vytvoří se vysoce kvalitní film.

VeTek Semiconducto jako lídr v oboru produktů TaC Coating Heater vždy podporuje služby přizpůsobení produktů a uspokojivé ceny produktů. Bez ohledu na to, jaké jsou vaše konkrétní požadavky, přizpůsobíme vám nejlepší řešení pro vaše potřeby ohřívače povlaku TaC a těšíme se na vaši konzultaci kdykoli.

Základní fyzikální vlastnosti ohřívače povlaku TaC:

Fyzikální vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Specifická emisivita	0.3
Koeficient tepelné roztažnosti	6,3 10-6/K
Tvrdost (HK)	2000 HK
Odpor	1×10-5 Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500℃
Velikost grafitu se mění	-10~-20um
Coating thickness	≥20um typická hodnota (35um±10um)