Náhradní díl povlaku TaC

VeTek SemiconductorTaC povlaková deskaje speciální materiál široce používaný vpolovodičvýrobního procesu. V kombinaci s vysokou tvrdostí a odolností proti opotřebení, vysokou teplotní odolností, korozní odolností, nízkým koeficientem tření a dobrou tepelnou vodivostí hraje TaC povlaková deska nezastupitelnou roli v mnoha článcích zpracování polovodičů.

Obecně platí, že aplikaceDesky potažené TaCpři zpracování polovodičů jsou následující:

Růstový substrát CVD/ALD: Vysoká teplotní odolnost, chemická stabilita a nízký koeficient tření z desek potažených TaC z nich činí ideální růstové substráty CVD/ALD. Může poskytnout stabilní růstové prostředí pro zajištění rovnoměrnosti a hustoty filmu.

Leptací deska masky: Vysoká tvrdost a odolnost proti korozi desek potažených TaC jim umožňuje odolat vysokoenergetickým procesům, jako je plazmové leptání, jako desky leptací masky, které chrání podkladový film.

CMP leštící pad: Odolnost proti opotřebení a nízký koeficient tření z desek potažených TaC z nich činí ideální materiály pro leštící kotouče CMP, které dokážou účinně odstranit částice a defekty na povrchu filmu.

Vysokoteplotní trubka pece: Vysoká teplotní odolnost a odolnost proti korozi TaC potažených desek umožňuje jejich použití jako pecní trubky ve vysokoteplotních pecích pro vysokoteplotní žíhání, difúzi a další procesy.

V kombinaci s vlastnostmi produktuTaC povlaková deska, určuje, že tento produkt hraje nezastupitelnou klíčovou roli při zlepšování výkonu zařízení, prodlužování životnosti zařízení a zlepšování efektivity výroby. 

Jako profesionální výrobceGaN na SiC epi akceptoru, Porézní grafitaTaC povlaková deskaV Číně společnost VeTek Semiconductor vždy trvá na poskytování přizpůsobených produktových služeb a je odhodlána poskytovat průmyslu špičkové technologie a produktová řešení. Upřímně se těšíme na vaši další konzultaci.

CVD TAC COATING Technické parametry：

Prodejny náhradních dílů TaC Coating：

Přehled průmyslového řetězce epitaxe polovodičových čipů：