Trubka potažená karbidem tantalu pro růst krystalů

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem společnosti Crystal Growth v Číně, potaženým karbidem tantalu. Již mnoho let se specializujeme na keramické povlaky. Naše produkty mají vysokou čistotu a odolnost vůči vysokým teplotám. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Můžete si být jisti, že si můžete zakoupit přizpůsobenou trubici potaženou karbidem tantalu pro růst krystalů od společnosti VeTek Semiconductor. Těšíme se na spolupráci s vámi, pokud chcete vědět více, můžete se s námi nyní poradit, včas vám odpovíme!

VeTek Semiconductor nabízí zkumavku potaženou karbidem tantalu pro růst krystalů speciálně navrženou pro růst krystalů SiC pomocí metody fyzikálního transportu par (PVT). Grafitové trubice VeTek Semiconductor se vyznačují vysokou čistotou s CVD povlakem z karbidu tantalu, což zajišťuje optimální výkon při růstu krystalů SiC. Krystaly SiC, známé jako polovodiče třetí generace, mají obrovský potenciál v různých aplikacích. Využitím naší trubice potažené karbidem tantalu pro růst krystalů mohou výzkumní pracovníci a profesionálové v oboru efektivně optimalizovat růst SiC a vyrábět vysoce kvalitní krystalové kuličky SiC. Ať už se zabýváte výzkumem nebo průmyslovou výrobou, naše produkty poskytují spolehlivá řešení pro efektivní růst krystalů SiC.

Kromě grafitové trubice potažené TaC dodává VeTek Semiconductor také kroužky potažené TaC, kelímek potažený TaC, porézní grafit potažený TaC, grafitový susceptor potažený TaC, vodicí kroužek potažený TaC, desku potaženou karbidem tantalu TaC, potahovací kroužek TaC, grafitový potah s povlakem TaC, potažený TaC kus pro pec pro růst krystalů, jak je uvedeno níže:

Metoda PVT Růst krystalů SiC

Parametr produktu trubice potažené karbidem tantalu pro růst krystalů

Fyzikální vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Specifická emisivita	0.3
Koeficient tepelné roztažnosti	6,3 10-6/K
Tvrdost (HK)	2000 HK
Odpor	1×10-5 Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Velikost grafitu se mění	-10~-20um
Tloušťka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)