Domov > produkty > Povlak z karbidu tantalu > Proces epitaxe SiC

Čína Proces epitaxe SiC výrobce, dodavatel, továrna

Jedinečné karbidové povlaky VeTek Semiconductor poskytují vynikající ochranu grafitovým dílům v procesu SiC Epitaxy pro zpracování náročných polovodičových a kompozitních polovodičových materiálů. Výsledkem je prodloužená životnost grafitových komponent, zachování reakční stechiometrie, inhibice migrace nečistot do aplikací epitaxe a růstu krystalů, což vede ke zvýšení výtěžku a kvality.

Naše povlaky z karbidu tantalu (TaC) chrání kritické součásti pece a reaktoru při vysokých teplotách (až 2200 °C) před horkým čpavkem, vodíkem, parami křemíku a roztavenými kovy. VeTek Semiconductor má širokou škálu možností zpracování a měření grafitu, aby vyhovoval vašim přizpůsobeným požadavkům, takže můžeme nabídnout zpoplatněný povlak nebo kompletní servis s naším týmem odborných inženýrů připravených navrhnout správné řešení pro vás a vaši konkrétní aplikaci. .

Složené polovodičové krystaly

VeTek Semiconductor může poskytnout speciální povlaky TaC pro různé komponenty a nosiče. Prostřednictvím špičkového povlakovacího procesu společnosti VeTek Semiconductor může povlak TaC získat vysokou čistotu, vysokou teplotní stabilitu a vysokou chemickou odolnost, čímž se zlepšuje kvalita produktu krystalických vrstev TaC/GaN) a EPl a prodlužuje se životnost kritických součástí reaktoru.

Tepelné izolátory

Komponenty pro růst krystalů SiC, GaN a AlN včetně kelímků, držáků semen, deflektorů a filtrů. Průmyslové sestavy včetně odporových topných prvků, trysek, stínících kroužků a pájecích přípravků, komponentů GaN a SiC epitaxních CVD reaktorů včetně nosičů plátků, satelitních van, sprchových hlavic, čepic a podstavců, komponent MOCVD.


Účel:

Nosič plátku LED (dioda vyzařující světlo).

ALD (polovodičový) přijímač

EPI receptor (proces SiC epitaxe)


Srovnání povlaku SiC a povlaku TaC:

SiC TaC
Hlavní rysy Ultra vysoká čistota, vynikající odolnost vůči plazmě Vynikající stabilita při vysokých teplotách (shoda procesu při vysokých teplotách)
Čistota >99,9999 % >99,9999 %
Hustota (g/cm 3) 3.21 15
Tvrdost (kg/mm ​​2) 2900-3300 6,7-7,2
Odpor [Ωcm] 0,1-15 000 <1
Tepelná vodivost (W/m-K) 200-360 22
Koeficient tepelné roztažnosti (10-6/℃) 4,5-5 6.3
aplikace Polovodičové vybavení Keramický přípravek (ostřící kroužek, sprchová hlavice, maketa plátku) SiC Růst monokrystalů, Epi, UV LED části vybavení


View as  
 
Halfmoon potažený karbidem tantalu TaC

Halfmoon potažený karbidem tantalu TaC

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a dodavatelem v Číně pro Tantal Carbide TaC Coated Halfmoon, specializujeme se na výzkum a vývoj a výrobu, dokážeme dobře kontrolovat kvalitu a nabídnout konkurenceschopnou cenu. Jste vítáni k návštěvě naší továrny pro další diskusi o dlouhodobé spolupráci.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Třílistý kroužek potažený TaC

Třílistý kroužek potažený TaC

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem prstenů se třemi okvětními lístky s povlakem TaC v Číně. Již mnoho let se specializujeme na povlakování TaC a SiC. Naše výrobky mají odolnost proti korozi, vysokou pevnost. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Sklíčidlo potažené karbidem tantalu

Sklíčidlo potažené karbidem tantalu

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem sklíčidla s povlakem karbidu tantalu v Číně. Již mnoho let se specializujeme na povlakování TaC. Naše produkty mají vysokou čistotu a odolnost vůči vysokým teplotám až do 2000℃. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Kryt potažený karbidem tantalu

Kryt potažený karbidem tantalu

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem krytu s povlakem z karbidu tantalu v Číně. Již mnoho let se specializujeme na povlakování TaC a SiC. Naše výrobky mají odolnost proti korozi, vysokou pevnost. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon

Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon

VeTek Semiconductor je předním dodavatelem přizpůsobeného Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon v Číně, který se již mnoho let specializuje na pokročilé materiály. Náš Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon je speciálně navržen pro epitaxní zařízení SiC a zajišťuje vynikající výkon. Vyrobeno z ultračistého importovaného grafitu, nabízí spolehlivost a odolnost. Navštivte naši továrnu v Číně a prozkoumejte náš vysoce kvalitní Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon z první ruky.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Horní část půlměsíce SiC Coated

Horní část půlměsíce SiC Coated

VeTek Semiconductor je předním dodavatelem přizpůsobených Upper Halfmoon Part SiC potažených v Číně, specializující se na pokročilé materiály již více než 20 let. VeTek Semiconductor Upper Halfmoon Part SiC potažená je speciálně navržena pro SiC epitaxní zařízení, která slouží jako klíčová součást v reakční komoře. Vyrobeno z ultračistého, polovodičového grafitu, zajišťuje vynikající výkon. Zveme vás k návštěvě naší továrny v Číně.

Přečtěte si víceOdeslat dotaz
<...23456>
Jako profesionální výrobce a dodavatel Proces epitaxe SiC v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby, které splňují specifické potřeby vašeho regionu, nebo si chcete koupit pokročilé a odolné Proces epitaxe SiC vyrobené v Číně, můžete nám zanechat zprávu.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept