- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Čína Povlak z karbidu tantalu výrobce, dodavatel, továrna
VeTek semiconductor je předním výrobcem povlakových materiálů z karbidu tantalu pro polovodičový průmysl. Mezi naše hlavní nabídky produktů patří CVD povlakové díly z karbidu tantalu, slinuté povlakové díly TaC pro růst krystalů SiC nebo proces epitaxe polovodičů. VeTek Semiconductor prošel ISO9001 a má dobrou kontrolu kvality. VeTek Semiconductor je odhodlána stát se inovátorem v průmyslu povlakování karbidu tantalu prostřednictvím pokračujícího výzkumu a vývoje iterativních technologií.
Hlavními produkty jsouDefektní prstenec s povlakem z karbidu tantalu, kroužek s povlakem TaC, půlměsícové díly s povlakem TaC, planetární rotační disk s povlakem z karbidu tantalu (Aixtron G10), kelímek s povlakem TaC; Kroužky potažené TaC; porézní grafit potažený TaC; Tantal Carbide Coating Graphite Susceptor; Vodicí kroužek potažený TaC; TaC deska potažená karbidem tantalu; Susceptor destičky potažený TaC; TaC povlakový kroužek; TaC povlak grafitový kryt; TaC Coated Chunkatd., čistota je nižší než 5 ppm, může splnit požadavky zákazníka.
TaC povlakový grafit vzniká potažením povrchu vysoce čistého grafitového substrátu jemnou vrstvou karbidu tantalu patentovaným procesem chemického nanášení z plynné fáze (CVD). Výhoda je znázorněna na obrázku níže:
Povlak z karbidu tantalu (TaC) si získal pozornost díky svému vysokému bodu tání až 3880 °C, vynikající mechanické pevnosti, tvrdosti a odolnosti vůči tepelným šokům, což z něj činí atraktivní alternativu k procesům epitaxe sloučenin polovodičů s vyššími teplotními požadavky, jako je Aixtron MOCVD systém a LPE SiC epitaxní proces. Má také široké uplatnění v PVT metodě SiC procesu růstu krystalů.
Klíčové vlastnosti:
Teplotní stabilita
Ultra vysoká čistota
Odolnost vůči H2, NH3, SiH4, Si
Odolnost vůči tepelným zásobám
Silná přilnavost ke grafitu
Konformní pokrytí povlakem
Velikost do průměru 750 mm (jediný výrobce v Číně dosahuje této velikosti)
Aplikace:
Wafer carrier
Indukční topný susceptor
Odporové topné těleso
Satelitní disk
Sprchová hlavice
Vodící kroužek
LED Epi přijímač
Vstřikovací tryska
Maskovací kroužek
Tepelný štít
Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickém průřezu:
Parametr povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:
| Fyzikální vlastnosti povlaku TaC | |
| Hustota | 14,3 (g/cm³) |
| Specifická emisivita | 0.3 |
| Koeficient tepelné roztažnosti | 6.3 10-6/K |
| Tvrdost (HK) | 2000 HK |
| Odpor | 1×10-5Ohm*cm |
| Tepelná stabilita | <2500℃ |
| Velikost grafitu se mění | -10~-20um |
| Tloušťka povlaku | ≥20um typická hodnota (35um±10um) |
Data EDX povlaku TaC：
Data krystalové struktury povlaku TaC
| Živel | Atomové procento | |||
| Pt. 1 | Pt. 2 | Pt. 3 | Průměrný | |
| C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| Ta M | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
- View as
Rotační deska povlaku TaC
TaC Coating Rotation Plate společnosti VeTek Semiconductor se může pochlubit vynikajícím povlakem TaC. Díky výjimečnému povlaku TaC se rotační deska TaC Coating Rotation může pochlubit pozoruhodnou odolností vůči vysokým teplotám a chemickou inertností, což ji odlišuje od tradičních řešení. Zavázali jsme se poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny. ceny a těšíme se, že budete vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
TaC povlaková deska
TaC Coating Plate společnosti VeTek Semiconductor je pozoruhodný produkt, který nabízí výjimečné vlastnosti a výhody. Naše potahovací deska TaC, navržená s přesností a zkonstruovaná k dokonalosti, je speciálně přizpůsobena pro různé aplikace v procesech růstu monokrystalů karbidu křemíku (SiC). Přesné rozměry a robustní konstrukce umožňují snadnou integraci do stávajících systémů a zajišťují bezproblémovou kompatibilitu a efektivní provoz. Jeho spolehlivý výkon a vysoce kvalitní povlak přispívají ke konzistentním a jednotným výsledkům v aplikacích růstu krystalů SiC. Jsme odhodláni poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že budeme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Kryt povlaku CVD TaC
Kryt povlaku CVD TaC od společnosti VeTek Semiconductor je vysoce specializovaná součást navržená speciálně pro náročné aplikace. Díky svým pokročilým funkcím a výjimečnému výkonu nabízí náš povlak CVD TaC povlak několik klíčových výhod. Náš povlak CVD TaC poskytuje nezbytnou ochranu a výkon požadované pro úspěch. Těšíme se na prozkoumání potenciální spolupráce s vámi!
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Planetární susceptor povlaku TaC
Planetární susceptor VeTek Semiconductor'TaC Coating je výjimečný produkt pro epitaxní zařízení Aixtron. Robustní povlak TaC poskytuje vynikající odolnost vůči vysokým teplotám a chemickou inertnost. Tato jedinečná kombinace zajišťuje spolehlivý výkon a dlouhou životnost i v náročných prostředích. VeTek se zavázal poskytovat vysoce kvalitní produkty a sloužit jako dlouhodobý partner na čínském trhu s konkurenčními cenami.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Podpěrná deska podstavce povlaku TaC
Podpůrná deska podstavce TaC Coating společnosti VeTek Semiconductor je vysoce přesný produkt navržený tak, aby splňoval specifické požadavky procesů epitaxe polovodičů. Díky povlaku TaC, odolnosti vůči vysokým teplotám a chemické inertnosti vám náš produkt umožňuje vyrábět vysoce kvalitní vrstvy EPI s vysokou kvalitou. Jsme odhodláni poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že budeme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
TaC Coating Chuck
TaC Coating Chuck společnosti VeTek Semiconductor se vyznačuje vysoce kvalitním povlakem TaC, známým pro svou vynikající odolnost vůči vysokým teplotám a chemickou inertnost, zejména v procesech epitaxe (EPI) karbidu křemíku (SiC). Díky svým výjimečným vlastnostem a vynikajícímu výkonu nabízí naše sklíčidlo TaC Coating Chuck několik klíčových výhod. Jsme odhodláni poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že budeme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Jako profesionální výrobce a dodavatel Povlak z karbidu tantalu v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby, které splňují specifické potřeby vašeho regionu, nebo si chcete koupit pokročilé a odolné Povlak z karbidu tantalu vyrobené v Číně, můžete nám zanechat zprávu.
