Čína Povlak z karbidu křemíku výrobce, dodavatel, továrna

VeTek Semiconductor se specializuje na výrobu ultračistých produktů s povlakem z karbidu křemíku, tyto povlaky jsou navrženy pro aplikaci na čištěný grafit, keramiku a součásti žáruvzdorných kovů.

Naše vysoce čisté povlaky jsou primárně určeny pro použití v polovodičovém a elektronickém průmyslu. Slouží jako ochranná vrstva pro nosiče plátků, susceptory a topné prvky a chrání je před korozivním a reaktivním prostředím, které se vyskytuje v procesech, jako je MOCVD a EPI. Tyto procesy jsou nedílnou součástí zpracování plátků a výroby zařízení. Kromě toho jsou naše povlaky vhodné pro aplikace ve vakuových pecích a ohřevu vzorků, kde se setkáváme s vysokým vakuem, reaktivním a kyslíkovým prostředím.

Ve společnosti VeTek Semiconductor nabízíme komplexní řešení s našimi pokročilými možnostmi strojírny. To nám umožňuje vyrábět základní komponenty s použitím grafitu, keramiky nebo žáruvzdorných kovů a nanášet keramické povlaky SiC nebo TaC ve firmě. Poskytujeme také lakovací služby pro díly dodané zákazníkem, což zajišťuje flexibilitu pro splnění různých potřeb.

Naše produkty z karbidu křemíku jsou široce používány v epitaxi Si, epitaxi SiC, systému MOCVD, procesu RTP/RTA, procesu leptání, procesu leptání ICP/PSS, procesu různých typů LED, včetně modré a zelené LED, UV LED a hlubokého UV LED atd., která je přizpůsobena zařízení od LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI a tak dále.

Části reaktoru, které umíme:

Povlak z karbidu křemíku má několik jedinečných výhod:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parametr povlaku VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating:

Základní fyzikální vlastnosti CVD SiC povlaku
Vlastnictví	Typická hodnota
Krystalová struktura	FCC β fáze polykrystalická, převážně (111) orientovaná
Hustota	3,21 g/cm³
Tvrdost	Tvrdost 2500 Vickers（zátěž 500g）
Velikost zrna	2~10μm
Chemická čistota	99,99995 %
Tepelná kapacita	640 J·kg-1·K-1
Teplota sublimace	2700 ℃
Pevnost v ohybu	415 MPa RT 4-bod
Youngův modul	Ohyb 430 Gpa 4pt, 1300℃
Tepelná vodivost	300W·m-1·K-1
Tepelná roztažnost (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

CVD SiC blok pro růst krystalů SiC

VeTek Semiconductor se zaměřuje na výzkum, vývoj a industrializaci objemových zdrojů CVD-SiC, povlaků CVD SiC a povlaků CVD TaC. Vezmeme-li jako příklad CVD SiC blok pro SiC Crystal Growth, technologie zpracování produktu je pokročilá, rychlost růstu je rychlá, odolnost vůči vysokým teplotám a odolnost proti korozi jsou silné. Vítejte na dotaz.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Nová technologie růstu SiC Crystal

Vysoce čistý karbid křemíku (SiC) společnosti Vetek Semiconductor vytvořený chemickou depozicí z plynné fáze (CVD) lze použít jako zdrojový materiál pro pěstování krystalů karbidu křemíku fyzikálním transportem par (PVT). V SiC Crystal Growth New Technology je zdrojový materiál vložen do kelímku a sublimován na zárodečný krystal. Použijte vyřazené CVD-SiC bloky k recyklaci materiálu jako zdroje pro pěstování krystalů SiC. Vítejte v navázání partnerství s námi.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Sprchová hlavice CVD SiC

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem CVD SiC sprchové hlavice v Číně. Již mnoho let se specializujeme na SiC materiál. CVD SiC sprchová hlavice je vybrána jako materiál fokusačního kroužku díky své vynikající termochemické stabilitě, vysoké mechanické pevnosti a odolnosti proti plazmová eroze. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

SiC sprchová hlavice

VeTek Semiconductor je předním výrobcem a inovátorem SiC sprchové hlavice v Číně. Již mnoho let se specializujeme na SiC materiál. SiC sprchová hlavice je vybrána jako materiál zaostřovacího kroužku díky své vynikající termochemické stabilitě, vysoké mechanické pevnosti a odolnosti proti plazmové erozi .Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Sada povlaků SiC

VeTek Semiconductor, přední výrobce CVD SiC povlaků, nabízí SiC Coating Set Disc v reaktorech Aixtron MOCVD. Tyto disky se sadou povlaků SiC jsou vyrobeny z vysoce čistého grafitu a mají povlak CVD SiC s nečistotami pod 5 ppm. Vítáme dotazy na tento produkt.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

SiC Coating Collector Center

VeTek Semiconductor, renomovaný výrobce CVD SiC povlaků, vám přináší špičkové centrum sběrače povlaků SiC v systému Aixtron G5 MOCVD. Tyto SiC Coating Collector Center jsou pečlivě navrženy s vysoce čistým grafitem a mohou se pochlubit pokročilým CVD SiC povlakem, který zajišťuje vysokou teplotní stabilitu, odolnost proti korozi a vysokou čistotu. Těšíme se na spolupráci s vámi!

Přečtěte si více Odeslat dotaz

<...4 5 6 7 8...11 >

Jako profesionální výrobce a dodavatel Povlak z karbidu křemíku v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby, které splňují specifické potřeby vašeho regionu, nebo si chcete koupit pokročilé a odolné Povlak z karbidu křemíku vyrobené v Číně, můžete nám zanechat zprávu.